wyklad3.pdf
(
358 KB
)
Pobierz
<!DOCTYPE html PUBLIC "-//W3C//DTD HTML 4.01//EN" "http://www.w3.org/TR/html4/strict.dtd">
Struktura CMOS
metal I
metal II
PMOS
NMOS
przelotka (VIA)
warstwy izolacyjne
(CVD)
kontakt
PWELL
NWELL
tlenek polowy
(utlenianie podłoża)
podłoże P
obszary słabo domieszkowanego drenu i źródła
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Physical structure
Layout representation Schematic representation
CVD oxide
Metal 1
Poly gate
Source
Drain
L
drawn
L
drawn
G
S
D
n+
n+
W
drawn
L
effective
B
Gate oxide
p-substrate (bulk)
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Tranzystor MOS
powstaje w układzie scalonym zawsze gdy nastapi
przecięcie ścieżki polikrzemowej z warstwą dyfuzji
Drain
D
G
Gate
S
Source
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Wytworzone maski stanowią matrycę, która pozwala na
powielanie struktury układu na całej powierzchni płytki
krzemowej
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Technologia
krzemowa
a)
c)
b)
d)
Wytwarzanie masek (a,b)
Wytwarzanie płytek krzemowych
(c,d)
Wytwarzanie elementów i połączeń
(e)
Testowanie ostrzowe (f)
Selekcja płytek (g)
Cięcie płytki (h)
Montaż (i)
Testowanie końcowe
e)
f)
g)
h)
i)
Katedra Mikroelektroniki i Technik Informatycznych PŁ
Plik z chomika:
Adamus666GT
Inne pliki z tego folderu:
328170_353230244784256_837080451_o.jpg
(494 KB)
328208_353230251450922_1911723389_o.jpg
(273 KB)
Archive.7z
(6499 KB)
fulladder.txt
(0 KB)
halfadd.txt
(0 KB)
Inne foldery tego chomika:
angielski B1
Architektura komputerow
Automatyzacja obliczeń inżynierskich
Grafika
MP
Zgłoś jeśli
naruszono regulamin